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液体汽化装置及使用该液体汽化装置的半导体处理系统制造方法及图纸
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下载液体汽化装置及使用该液体汽化装置的半导体处理系统的技术资料
文档序号:18441466
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本发明涉及一种高效半导体成膜用液体汽化器,该液体汽化器通过将特定成膜用液体原料进行汽化,最后通过载气将汽化后的气体通过气路输出到半导体成膜的反应腔中制备薄膜。该液体汽化装置包含一主体及一阻挡器。该主体定义一腔体,该腔体具有用于接收一或多个原...
该专利属于沈阳拓荆科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过沈阳拓荆科技有限公司授权不得商用。
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