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本发明提供一种膜厚检测装置，用于在基板蒸镀时检测所述基板的蒸镀速率，包括蒸镀源、膜厚检测器、调节部、气体管道与加热部，所述蒸镀源具有喷嘴，在第一方向上所述喷嘴、所述气体管道、所述调节部以及所述膜厚检测器依次排列，所述喷嘴与所述气体管道的进料...
该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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