温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型涉及一种粉体溅射镀膜装置，包括镀膜腔体，所述镀膜腔体上部可转动设置有分离转盘，所述镀膜腔体中部的一侧设置有溅射阴极，所述镀膜腔体底部连接有输送管道进口端，所述输送管道的出口端连接至镀膜腔体的上部，所述输送管道的出口端设置在溅射阴极...
该专利属于武汉普迪真空科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉普迪真空科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。