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一种闪存存储单元制造技术
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文档序号:18401692
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本发明提供一种闪存存储单元。该闪存存储单元包括硅衬底、导体、绝缘层和源漏,导体位于硅衬底的上方,导体分为第一导体和第二导体,第一导体位于第二导体之上,绝缘层将第一导体和第二导体分隔开并包围在内,其中,硅衬底分为第一N掺杂区、第二N掺杂区、第...
该专利属于北京同方微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京同方微电子有限公司授权不得商用。
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