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本发明公开了一种MOS晶体管的器件失配模型的修正方法及系统,所述方法包括如下步骤:确定MOS晶体管的工艺失配参数,并通过加入面积因子geo_fac对各工艺失配参数进行修正以得到各工艺失配参数的修正量;于工艺失配参数的阈值电压的修正计算中加入...该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种MOS晶体管的器件失配模型的修正方法及系统,所述方法包括如下步骤:确定MOS晶体管的工艺失配参数,并通过加入面积因子geo_fac对各工艺失配参数进行修正以得到各工艺失配参数的修正量;于工艺失配参数的阈值电压的修正计算中加入...