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本实用新型公开了一种用于制备组合材料的高通量磁控溅射系统，该装置包括真空室，以及设置于真空室中的多个磁控溅射阴极和基片，基片设置于真空室顶部，多个磁控溅射阴极斜对着基片设置，不同的磁控溅射阴极上设置不同类型的靶材，还包括旋转挡板及旋转挡板的...
该专利属于深圳市矩阵多元科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市矩阵多元科技有限公司授权不得商用。

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