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本发明提供晶片的清洗方法，其能够抑制晶片上形成由臭氧水引起的高低差缺陷。本发明是在使晶片旋转的同时向该晶片的表面上供给清洗液的晶片的清洗方法，其特征在于，向前述晶片表面上，开始氢氟酸的供给，在停止前述氢氟酸的供给之前或者在停止的同时，开始纯...
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