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本实用新型公开了一种磁控溅射设备，属于磁控溅射技术领域。该磁控溅射设备包括溅射腔室、设置在所述溅射腔室内的靶材和多个遮挡板，位于所述靶材下方的遮挡板上设置有导粉通孔，设有所述导粉通孔的所述遮挡板下方设有粉末收集盒，通过在位于靶材下方的遮挡板...该专利属于合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。