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本发明公开了一种化学机械抛光垫，包括抛光层和衬底层，所述抛光层通过双面胶带层粘合在衬底层的上表面，所述抛光层从圆心到圆周设置多个同心圆槽，所述同心圆槽由分离圆槽分成内侧区域和外侧区域两部分，所述内侧区域还设置有径向槽，所述径向槽可为直线槽、...
该专利属于成都时代立夫科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都时代立夫科技有限公司授权不得商用。

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