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本发明公开了一种钼酸镧基多孔薄膜材料及其制备方法。材料为基底上覆有厚为５０ｎｍ～１０μｍ的钼酸镧基构成的多孔状多晶薄膜，其由粒径为１０～９０ｎｍ的钼酸镧基粒子构成，薄膜中孔的孔径为２０ｎｍ～１μｍ；方法为（ａ）按照（Ｌａ↓［２－ｘ］Ａ↓［ｘ...该专利属于中国科学院合肥物质科学研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院合肥物质科学研究院授权不得商用。
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本发明公开了一种钼酸镧基多孔薄膜材料及其制备方法。材料为基底上覆有厚为５０ｎｍ～１０μｍ的钼酸镧基构成的多孔状多晶薄膜，其由粒径为１０～９０ｎｍ的钼酸镧基粒子构成，薄膜中孔的孔径为２０ｎｍ～１μｍ；方法为（ａ）按照（Ｌａ↓［２－ｘ］Ａ↓［ｘ...