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提供了等离子体加工装置的碳化硅部件、制作此部件的方法、以及在半导体衬底的加工过程中使用此部件来提供降低了的衬底颗粒沾污的方法。利用在部件中导致自由碳的工艺来形成碳化硅部件。对此碳化硅部件进行处理，以便至少从表面清除自由碳。...
该专利属于兰姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过兰姆研究公司授权不得商用。

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