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本发明提供一种能对以钼类金属和铝类金属为主成分的金属层叠膜进行整体蚀刻，且可以抑制各膜的侧刻蚀量，将锥角控制为２０～７０度的优异的蚀刻液。该蚀刻液是对在绝缘膜基板上形成的铝类金属膜及钼类金属膜的层叠膜进行蚀刻的蚀刻液，含有磺酸化合物、磷酸和...
该专利属于关东化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过关东化学株式会社授权不得商用。

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