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一种霍尔源激励磁控溅射增强型磁过滤多弧离子复合镀膜方法，本方法包括以下步骤：抽真空及加热；离子轰击；镀膜。通过该方法突破了传统的技术难题，通过弧电流大小的控制、靶的合理设计及完善的工艺过程实现膜层的高硬度、高致密性，实现并保证薄膜材料与基体...
该专利属于西安宇杰表面工程有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安宇杰表面工程有限公司授权不得商用。

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