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本发明涉及一种用于汽相淀积设备的、用来将源物质供给到反应器中的热源，该热源（１）包括具有用于源物质的源空间（４）的源容器（２）。在本发明中，源（１）还包括盖（６），该盖（６）包括用来加热盖（６）的第一加热装置（８），盖（６）以这样一种方式可...
该专利属于BENEQ有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过BENEQ有限公司授权不得商用。

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