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一种化学气相沉积室的多区域加热台座，用于处理基板，其中该台座用于支撑该基板，并包括台座轴，用于将台座在沉积室内沿垂直方向移动，其具有平台，具有第一半部及第二半部；第一外区加热器，埋设于该平台的第一半部的周边；第一内区加热器，埋设于该平台由该...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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