温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种化学气相沉积设备，包括：反应腔盖板，若干喷头、位置固定件以及连接杆，所述连接杆的一端与喷头固定连接，另一端贯穿所述反应腔盖板，通过位置固定件连接在反应腔盖板的外表面。反应腔盖板外表面上设置有凹槽，连接杆贯穿所述凹槽。所述方案克服了现有技...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。