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本发明公开了一种等离子体气相沉积装置以及方法。其中，等离子体气相沉积装置包括用于气相沉积的反应腔、与反应腔连通的第一抽气通道、包围反应腔的隔离腔以及与隔离腔连通的第二抽气通道，通过第一抽气通道和第二抽气通道可向外抽气，从而调节反应腔与隔离腔...
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