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一种ＴｉＮ／ＳｉＯ↓［２］超硬纳米多层膜及其制备工艺，属于陶瓷薄膜领域。ＴｉＮ／ＳｉＯ↓［２］高硬度纳米多层膜由ＴｉＮ层和ＳｉＯ↓［２］层交替沉积在金属或陶瓷基底上形成，ＴｉＮ层的厚度为２～９ｎｍ，ＳｉＯ↓［２］层厚为０．４５～１．２ｎｍ。...该专利属于上海交通大学;上海工具厂有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海交通大学;上海工具厂有限公司授权不得商用。
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一种ＴｉＮ／ＳｉＯ↓［２］超硬纳米多层膜及其制备工艺，属于陶瓷薄膜领域。ＴｉＮ／ＳｉＯ↓［２］高硬度纳米多层膜由ＴｉＮ层和ＳｉＯ↓［２］层交替沉积在金属或陶瓷基底上形成，ＴｉＮ层的厚度为２～９ｎｍ，ＳｉＯ↓［２］层厚为０．４５～１．２ｎｍ。...