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一种双倒筒靶结合基片双轴旋转的镀膜装置，包括：转动驱动轴１、基片导轨２以及基片３，圆筒形靶材９，真空腔体１６，由转动驱动轴１、基片导轨２以及基片３构成双轴旋转机构，其特征是它还包括：圆筒形靶材１０、圆筒形靶材１０位于圆筒形靶材９相对应的另一...
该专利属于电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过电子科技大学授权不得商用。

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