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本发明提供一种避免反应室粒子污染的化学气相沉积方法。该方法以较高的低频射频功率以及较长的工艺时间进行一反应室排空的工艺以及一预热工艺（ｐｒｅ－ｈｅａｔ　　ｐｒｏｃｅｓｓ）。接着于反应室室壁形成一前氧化层（ｐｒｅ－ｏｘｉｄｅ　　ｌａｙｅｒ），...
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