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用于在基底上气相沉积的设备制造技术
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下载用于在基底上气相沉积的设备的技术资料
文档序号:1803950
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本发明涉及一种用于在基底上气相沉积的设备。该设备包括盘和带有若干线性设置的孔的盖。在该盖的上方设有密封装置,该密封装置也包括若干开口。通过该密封装置,可以使盖的这些孔敞开或者封闭,所有的孔被同时处理。通过该密封装置,能够在极短的时间内设定不...
该专利属于应用材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过应用材料有限公司授权不得商用。
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