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本实用新型涉及等离子体设备领域，公开了一种进气分配结构以及应用了该种进气分配结构的真空等离子体设备。其中，真空等离子体设备由真空腔体和进气分配结构组成。进气分配结构包括：进气分配盘，正对于真空腔体的内壁设置；密封组件，部分设置于真空腔体的内...
该专利属于上海稷以科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海稷以科技有限公司授权不得商用。

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