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本发明提供一种双功能反应设备，包括：双功能反应炉、气源柜及排气柜；其中，双功能反应炉用于待处理基底表面材料层的生长及刻蚀，所述双功能反应炉包括：用于放置待处理基底的炉管、炉体、加热装置、与所述炉管内部相连通，且用于向所述炉管内通入生长气体或...
该专利属于刘成所有，仅供学习研究参考，未经过刘成授权不得商用。

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