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本发明涉及电学及纳米加工技术领域，一种声表面波滤波器应用泛曝光的双层胶剥离工艺，包括如下步骤：步骤1、清洗工艺：压电材料的表面清洗：步骤2、涂胶工艺：字压电材料表面涂抹粘度为49CPS的第一层正性光刻胶；步骤3、泛曝光处理：紫外光泛曝光对整...
该专利属于深圳华远微电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳华远微电科技有限公司授权不得商用。

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