下载一种CMP抛光液及其在GaAs晶片抛光中的应用的技术资料

文档序号:17962138

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本发明涉及一种CMP抛光液及其在GaAs晶片抛光中的应用,每100重量份的抛光液中,包括磨料0.1~50份、表面活性剂0.001~0.4份、成膜剂0.001~0.6份、pH值调节剂0.05~10份、抛光促进剂0.01~4份、余量为去离子水;...
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