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存储装置及其制作方法、数据读写方法制造方法及图纸
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下载存储装置及其制作方法、数据读写方法的技术资料
文档序号:17961467
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本发明公开了一种存储装置及其制作方法及一种数据读写方法,该存储装置中的隧穿场效应晶体管包括:半导体衬底,位于半导体衬底表面的沟道、源区和漏区、势阱层、第一栅区和第二栅区,沟道具有在第一方向上彼此相对的第一表面和第二表面,在第二方向上彼此相对...
该专利属于华为技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过华为技术有限公司授权不得商用。
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