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集成电路结构(100)包括：半导体衬底(102)；在半导体衬底(102)中的浅沟槽隔离(STI)区域(106)；形成在所述半导体衬底(102)上的一个或多个有源器件；以及电阻器阵列(138)，其具有设置在所述STI区域(106)上方的多个电...
该专利属于赛灵思公司所有，仅供学习研究参考，未经过赛灵思公司授权不得商用。

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