温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明揭露一种单晶圆旋转蚀刻清洗机台的流体收集装置，用于收集蚀刻单晶圆的流体，包含：转盘，固定及旋转单晶圆；至少一个回收盘，固设于该转盘的外缘，用以收集该单晶圆旋转时甩出的该流体；至少一个盖盘，对应并盖设于该回收盘上，用以导引该流体流至该回...
该专利属于锡宬国际有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过锡宬国际有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。