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本发明提供一种改善金属层腐蚀缺陷方法，在本发明提供的改善金属层腐蚀缺陷方法中，所述改善金属层腐蚀缺陷方法利用大数据分析，总结出厚金属层刻蚀工艺中所述光刻胶消耗量跟所述产品透光率，所述光刻胶刻蚀速率跟所述产品透光率的相关性，通过增加光刻胶前处...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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