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本发明公开了一种能够对湿刻工艺过程中化学试剂实现自动添加的硅片湿刻装置。该硅片湿刻装置，包括储水箱、HF储存箱、HNO3储存箱以及沿硅片输送方向依次布置的去PSG槽、刻蚀槽、第一清洗槽、碱洗槽、酸中和槽、第二清洗槽、酸洗槽、第三清洗槽；所述...
该专利属于乐山新天源太阳能科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过乐山新天源太阳能科技有限公司授权不得商用。

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