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本发明涉及半导体工艺领域，提供一种半导体芯片的清洗方法，包括：将所述待清洗的芯片置放于有机溶剂中进行有机溶剂清洗，以去除杂质，所述有机溶剂清洗过程中，加载有超声波；对芯片进行热处理，以使有机溶剂残留物挥发；热处理后冷却；加水至沸腾，水蒸汽上...
该专利属于奕铭（大连）科技发展有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过奕铭（大连）科技发展有限公司授权不得商用。

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