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本发明提供一种化学气相沉积设备,包括:腔体、第一电极、第二电极、沉积基板、进气口、抽气管和连接射频电源。所述第一电极和所述第二电极平行相对设置于所述腔体内。所述第一电极连接射频电源。所述第二电极接地;所述沉积基板设于所述第一电极和所述第二电...该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种化学气相沉积设备,包括:腔体、第一电极、第二电极、沉积基板、进气口、抽气管和连接射频电源。所述第一电极和所述第二电极平行相对设置于所述腔体内。所述第一电极连接射频电源。所述第二电极接地;所述沉积基板设于所述第一电极和所述第二电...