下载用于多阈值PMOS晶体管的嵌入式SiGe工艺的技术资料

文档序号:17746656

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

在所描述的具有第一PMOS晶体管(205)和第二PMOS晶体管(215)的集成电路和方法的示例中,第一PMOS晶体管(205)具有延伸区(210)和袋区注入物(212)并且具有SiGe源极和漏极(230),第二PMOS晶体管(215)不具有...
该专利属于德克萨斯仪器股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过德克萨斯仪器股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。