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用于多阈值PMOS晶体管的嵌入式SiGe工艺制造技术
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下载用于多阈值PMOS晶体管的嵌入式SiGe工艺的技术资料
文档序号:17746656
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在所描述的具有第一PMOS晶体管(205)和第二PMOS晶体管(215)的集成电路和方法的示例中,第一PMOS晶体管(205)具有延伸区(210)和袋区注入物(212)并且具有SiGe源极和漏极(230),第二PMOS晶体管(215)不具有...
该专利属于德克萨斯仪器股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过德克萨斯仪器股份有限公司授权不得商用。
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