温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

基板处理方法的实施方式可包括：喷射步骤，用于将包括含有硅的源材料的气体喷射到被容置在反应腔室中的基板上；沉积步骤，用于产生包括氧基团的等离子体并在基板上沉积源材料以形成沉积的氧化物膜；和表面处理步骤，用于通过向沉积的膜喷射包括氧基团的等离子...
该专利属于周星工程股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过周星工程股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。