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本发明涉及一种化学机械抛光(CMP)组合物(Q)用于化学机械抛光包含(i)钴和/或(ii)钴合金以及(iii)TiN和/或TaN的基材(S)的用途，其中CMP组合物(Q)包含(E)无机粒子，(F)至少一种包含氨基以及酸基(Y)的有机化合物，...
该专利属于巴斯夫欧洲公司所有，仅供学习研究参考，未经过巴斯夫欧洲公司授权不得商用。

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