温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种高温处理腔室内适用于处理晶片的配置，所述配置包括：主轴，所述主轴包括具有支撑端部的杆，所述支撑端部包括从所述杆向外突出的圆形肩部和沿与所述杆同轴的方向从所述圆形肩部延伸出的插入部，所述圆形肩部具有形成为沿与所述杆同轴的方向延伸的环形延伸...
该专利属于中微半导体设备（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。