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为了提高大规模集成电路制造中的光学测量的信噪比，本公开涉及用于确定光斑位置的方法和设备。方法包括：测量针对照射在待测区域上的第一入射光束的第一反射光谱；测量针对照射在待测区域上的第二入射光束的第二反射光谱，其中第一入射光束和第二入射光束的方...
该专利属于睿励科学仪器（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过睿励科学仪器（上海）有限公司授权不得商用。

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