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本实用新型涉及一种GeSn隧穿场效应晶体管，该晶体管包括：衬底材料101、Ge层102、GeSn外延层103、栅介质层104、栅极层105、源区106以及漏区107；其中，所述Ge层102、所述GeSn外延层103、所述栅介质层104以及所...
该专利属于西安科锐盛创新科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安科锐盛创新科技有限公司授权不得商用。

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