温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型涉及一种类金刚石碳膜的双系统镀覆装置，该装置具有真空室，真空室中安置有线性离子源、中频磁控溅射孪生靶和阴极电弧离子镀蒸发离化源三大部件。本实用新型的双系统类金刚石碳膜的镀覆装置可以用来制备含氢的DLC、不含氢的DLC以及金属/DL...
该专利属于湖州金象科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖州金象科技股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。