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本发明提供一种电容器阵列结构及其制造方法，包括：1）提供一半导体衬底；2）于半导体衬底的上表面形成交替叠置的牺牲层及支撑层；3）于所述交替叠置的牺牲层及支撑层的上表面形成图形化掩膜层，图形化掩膜层具有多个开孔；4）在支撑层及牺牲层内形成电容...
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