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本实用新型提供一种集成肖特基结的功率器件结构，包括：N型外延层，其具有表面形成氧化层的第一沟槽、第二沟槽及第三沟槽，所述第一沟槽底部形成有肖特基结，所述第二沟槽中有与所述肖特基结相连的肖特基金属层；绝缘材料及栅介质层；互连的多晶硅；P型体区...
该专利属于中航（重庆）微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中航（重庆）微电子有限公司授权不得商用。

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