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本申请公开了化学气相沉积装置及其用途。等离子体增强化学气相沉积(PECVD)装置包括配置用于具有基板的晶圆舟(10)的管状室(100)。PECVD装置还包括布置在室外侧并被配置用于借助于辐射来发射热的加热工具(110)、以及用于控制室(10...
该专利属于泰姆普雷斯艾普公司所有，仅供学习研究参考，未经过泰姆普雷斯艾普公司授权不得商用。

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