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本发明涉及使表面平面化的方法。在实施例中，一种使表面平面化的方法包括：将第一层应用于包括突出区域的表面以使得所述第一层覆盖所述表面和所述突出区域，所述突出区域包括上表面上的终止层和至少一个化合物半导体；移除在所述突出区域上方的所述第一层的部...
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