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本发明提供一种光掩膜版的清洗方法及去胶方法，所述光掩膜版的清洗方法至少包括以下步骤：1）使用硫酸及双氧水的混合液对所述光掩膜版进行清洗；2）使用氨水、双氧水及去离子水的混合溶液对所述光掩膜版进行清洗；3）使用超声波对所述光掩膜版进行清洗；4...
该专利属于上海凸版光掩模有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海凸版光掩模有限公司授权不得商用。

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