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本发明公开了一种半导体器件。其包括依次设置的P型衬底、隔离层和N型硅层;N型硅层一侧的隔离层上设有P型阱,另一侧的隔离层上设有N型阱;P型阱上有源极,N型阱上有漏极,N型硅层上有氧化层;源极和漏极之间的氧化层、P型阱和N型阱覆盖第一介质层;...该专利属于四川九鼎智远知识产权运营有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过四川九鼎智远知识产权运营有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种半导体器件。其包括依次设置的P型衬底、隔离层和N型硅层;N型硅层一侧的隔离层上设有P型阱,另一侧的隔离层上设有N型阱;P型阱上有源极,N型阱上有漏极,N型硅层上有氧化层;源极和漏极之间的氧化层、P型阱和N型阱覆盖第一介质层;...