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一种X射线波带片的制备方法技术
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下载一种X射线波带片的制备方法的技术资料
文档序号:17542867
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一种X射线波带片的制备方法,采用原子层沉积(ALD)方法在直径为微米级的金属丝表面交替沉积氧化铝/氧化铪,或者氧化铝/铱等两种密度不同、厚度不同的薄膜,即第一层沉积氧化铝薄膜,第二层沉积氧化铪薄膜或铱薄膜,如此交替循环,形成一系列同心圆环。...
该专利属于中国科学院电工研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院电工研究所授权不得商用。
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