一种X射线波带片的制备方法技术

一种X射线波带片的制备方法，采用原子层沉积(ALD)方法在直径为微米级的金属丝表面交替沉积氧化铝/氧化铪，或者氧化铝/铱等两种密度不同、厚度不同的薄膜，即第一层沉积氧化铝薄膜，第二层沉积氧化铪薄膜或铱薄膜，如此交替循环，形成一系列同心圆环。镀膜完成后利用聚焦离子束对镀膜后金属丝进行切割、抛光，最终得到所需厚度和精度的波带片。本发明专利技术适合于多种波带片的制备。

A preparation method of X ray wave band

An X - ray zone plate prepared by atomic layer deposition (ALD) method in the diameter of the metal surface alternately micron deposition of alumina / HfO2 or alumina / iridium two different densities, different thickness of the film, the first layer is deposited alumina films, second layer deposition of hafnium oxide thin films or iridium film, so cycling, the formation of a series of concentric rings. After the coating is completed, the coated metal wire is cut and polished with the focused ion beam, and the required thickness and precision are finally obtained. The invention is suitable for the preparation of various wave band pieces.

【技术实现步骤摘要】
一种X射线波带片的制备方法
本专利技术涉及一种X射线波带片的制备方法。
技术介绍
X射线具有短波长、穿透能力强等特点，在空间探测，医疗、能源、航空航天等领域有着比较广泛的应用。X射线光谱仪和能谱仪是等离子体诊断和太空探测的重要工具，而作为X射线光谱仪核心元器件的X射线衍射光学元器件逐渐成为纳米加工领域的核心，X射线衍射光学元器件已经成为现阶段空间探测技术的关键。X射线衍射光学元器件在激光惯性约约束聚变、天文望远镜、同歩辐射、EUV光刻等领域有着广泛应用。而如何实现高分辨率、大高宽比的X射线衍射光学元器件为纳米尺度加工工艺提出了很大的技术挑战。菲涅耳波带片是一种衍射光学的聚焦元件，图形是由一系列黑白相间的同心圆环构成，其中同心圆的各个圆环的面积相等。各圆环称为半波带，通过波带片相邻的透明和不透明波带的光线，到达焦点的位相差为π，光程差为波长的一半，这使得焦点处的光强处于干涉加强的状态。当前国际上为实现高分辨率和高衍射效率，虽然发展了以电子束光刻为基础的各种先进的纳米制备工艺，但当前最大的瓶颈是：在高分辨率下，由于高宽比的限制，往往是分辨率的提高是以牺牲衍射效率为代价的，反之亦然。因此如本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种X射线波带片的制备方法，其特征在于：所述的制备方法的步骤如下：(1)选择金属丝：选定直径为5‑30μm，表面粗糙度小于100nm的钨丝或金丝作为制备原料；(2)计算波带片最外层环数N：依据给定的波带片的最外层厚度△rN，计算出最外层环数N，计算公式如下：

【技术特征摘要】
1.一种X射线波带片的制备方法，其特征在于：所述的制备方法的步骤如下：(1)选择金属丝：选定直径为5-30μm，表面粗糙度小于100nm的钨丝或金丝作为制备原料；(2)计算波带片最外层环数N：依据给定的波带片的最外层厚度△rN，计算出最外层环数N，计算公式如下：其中，r0为金属丝的半径，λ为X射线的波长，f为参考焦距；(3)沉积薄膜：利用原子层沉积方法在金属丝表面交替沉积氧化铝/氧化铪，或者氧化铝/铱等两种密度不同、厚度不同的薄膜，即第一层沉积氧化铝薄膜，第二层沉积氧化铪薄膜或铱薄膜，如此交替循环...

【专利技术属性】
技术研发人员：孔祥东，门勇，李艳丽，许壮，韩立，
申请(专利权)人：中国科学院电工研究所，
类型：发明
国别省市：北京,11