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本发明提供一种化学气相沉积设备，所述化学气相沉积设备包括：反应腔体；真空提供装置，所述真空提供装置提供所述反应腔体内的真空；源供给装置，所述源供给装置将反应气体供给到所述反应腔体中；管状加热器，所述管状加热器处于所述反应腔体内，具有开放的两...
该专利属于中国科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学技术大学授权不得商用。

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