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本实用新型公开了一种水冷坩埚，包括顶部中心形成有物料池的坩埚，以及与所述的坩埚底部固定连接的底座；物料池周侧水冷机构包括于坩埚于物料池底部向内凹陷地形成的水槽，所述的水槽由所述的底座将下开口封闭，其中，在所述的水槽内固定设置有导流立柱，所述...该专利属于核工业理化工程研究院;沈阳腾鳌真空技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过核工业理化工程研究院;沈阳腾鳌真空技术有限公司授权不得商用。