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一种阵列基板的制造方法，包括：在基板(10)上依次形成栅极(20)、栅极绝缘层(30)、金属氧化物半导体层(40)、第一保护层(50)和源漏极层(60)；在源漏极层(60)上形成光阻层(70)，光阻层(70)上设置有镂空区(71)；去除源漏...
该专利属于深圳市柔宇科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市柔宇科技有限公司授权不得商用。

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